Negative diffusivity and uphill diffusion of vacancy during boron diffusion in silicon

Báo cáo khoa học đăng trên các kỷ yếu khoa học tại Hội nghị/Hội thảo khoa học quốc tế (có chỉ số ISBN)

Loại công bố: Báo cáo khoa học đăng trên các kỷ yếu khoa học tại Hội nghị/Hội thảo khoa học quốc tế (có chỉ số ISBN)
Tên công bố: Negative diffusivity and uphill diffusion of vacancy during boron diffusion in silicon
Nơi công bố: —
Tên tạp chí: Proceeding of the 4th International Conference on Advanced Materials and Nanotechnology
Nhà xuất bản: —
Thời gian: 2019-12-14
Chỉ số tác động (IF): —
Tập (vol): —
Kỳ (issue): —
Trang: —
Tác giả liên hệ: Vũ Bá Dũng
Tác giả thứ nhất: Vũ Bá Dũng
Đồng tác giả: —
Danh sách tác giả: Vũ Bá Dũng
Thuộc HĐ giáo sư: —
Đường dẫn: —
Tệp đính kèm: ICAMN2019 11 P48-51.pdf